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化學氣相沉積爐（碳化硅）可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。

☆ 采用先進的控制技術，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內沉積氣流穩定，壓力波動范圍小；
☆ 采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強；
☆ 采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；
☆ 對沉積產生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產物能進行有效處理；
☆ 采用**設計防腐蝕真空機組，持續工作時間長，維修率極低。

☆ 爐門：絲桿升降/液壓升降/手動升降；旋轉移開/平行移開（大尺寸爐門）；手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊 

☆ 爐殼：全碳鋼/內層不銹鋼/全不銹鋼
☆ 爐膽：軟碳氈/軟石墨氈/硬質復合氈/CFC
☆ 加熱器、馬弗：等靜壓石墨/模壓三高石墨/細顆粒石墨
☆ 工藝氣路系統：體積/質量流量計
☆ 熱電偶：K分度號/N分度號/C分度號/S分度號