粉體行業在線展覽
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PECVD
直接聯系
廣東鴻浩半導體設備有限公司
廣東
面議
鴻浩半導體
PECVD
410
核心技術：
多站式（Multi-Stantion）設計，系統具有優異的膜厚均勻性；
模組化機臺設計能夠針對客戶的需求做設計；
射頻功率設計，使反應物能在低溫的狀態下達到高速率的沉積，進而提高產能；
先進性：
具有多站式（Multi-Stantion）設計，能夠實現高重復性，使薄膜沉積的更加均勻；
優化RF功率，使薄膜應力及反射率達到**數值
