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Cressington 108Auto 全自動(dòng)離子濺射儀是用于掃描電鏡的

***高質(zhì)量的鍍膜儀系統(tǒng)

●自動(dòng)的換氣與泄氣功能，可以得到一致的膜厚，和**的導(dǎo)電噴鍍效果。

●通過高效低壓直流磁控頭進(jìn)行冷態(tài)精細(xì)的噴鍍過程，避免樣品表面受損。

●操作容易快捷，可全自動(dòng)或手動(dòng)進(jìn)行噴鍍操作，控制的參數(shù)包括自動(dòng)放氣以及氬氣換

氣控制。

●在自動(dòng)模式下，可通過兩種方式進(jìn)行控制鍍膜過程。可通過數(shù)字顯示器控制得到可重

現(xiàn)的噴鍍效果。

●可配備 MTM-10 高分辨膜厚監(jiān)控儀（選件）(分辨率優(yōu)于 0.1nm，-99.9nm 到+999.9nm)

●數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氬氣壓力影響，可得到一致的鍍膜速率和**的

鍍膜效果。

●可使用多種金屬靶材：Au， Au/Pd，，Pt，，Pt/Pd，靶材更換快速方便。

技術(shù)規(guī)格：

樣品倉(cāng)尺寸： 120 x 120mm（高） (4.75 x 4.75")，高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu)

樣品臺(tái)：可放置 12 個(gè)標(biāo)準(zhǔn) SEM 樣品座，高度可在 60mm 內(nèi)調(diào)節(jié)

濺鍍優(yōu)點(diǎn)：基于微處理器反饋控制，遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng)；提供真空安全聯(lián)鎖裝置，*

大 180A，配有過流保護(hù)

濺射控制：微處理器控制，安全互鎖，可調(diào)，**電流 40mA，程序化數(shù)字控制

濺射頭：低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩

模擬計(jì)量：真空 Atm - 0.01mb 電流: 0 - 200A

厚度監(jiān)測(cè)器： MTM-10 高精度厚度監(jiān)測(cè)器(選配)

控制方式：自動(dòng)氣體換氣和泄氣功能，自動(dòng)處理排序，帶有“暫停”控制的數(shù)字定時(shí)器

（0－300s），自動(dòng)放氣

電源：200-240 VAC， 50/60Hz

功率：1000VA (包括鍍碳機(jī)和真空系統(tǒng))

Cressington 108C Auto 全自動(dòng)鍍碳儀是用于掃描電鏡的

***的鍍碳儀系統(tǒng)

●獨(dú)特的受反饋控制的碳棒蒸發(fā)系統(tǒng)可以在膜厚大約 20nm 左右進(jìn)行多次蒸發(fā)，無須切

削或調(diào)整碳棒形狀。

●108C Auto 中使用的高純碳棒可以在高倍條件下得到高質(zhì)量的鍍膜效果。該鍍膜系統(tǒng)

結(jié)構(gòu)緊湊，容易操作，抽真空周期短。選件 MTM-10 高分辨膜厚監(jiān)控儀可以精確地得到

所需的碳膜厚度。

●使用新型的蒸發(fā)裝置：電流和電壓通過磁控頭的傳感線監(jiān)控，蒸發(fā)源作為反饋回路中

的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。功率消耗低，

碳棒具有優(yōu)異的重新蒸鍍特性。蒸發(fā)源可以通過脈沖或連續(xù)的方式操作。

●自動(dòng)模式下，蒸發(fā)源按程序設(shè)定的電壓和時(shí)間進(jìn)行噴鍍。手動(dòng)模式下，獨(dú)特的設(shè)計(jì)允

許以脈沖或連續(xù)的方式操作，并通過旋鈕控制輸出電壓。

●可配備 MTM-10 高分辨膜厚監(jiān)控儀（選件）(分辨率優(yōu)于 0.1nm，-99.9nm 到+999.9nm)

技術(shù)規(guī)格：

樣品倉(cāng)尺寸： 120 x 120mm（高） (4.75 x 4.75")，高強(qiáng)度不銹鋼結(jié)構(gòu)

濺鍍材料：Bradley 型高純度碳棒 (6.15mm， [1/4"])

濺鍍優(yōu)點(diǎn)：基于微處理器反饋控制，遠(yuǎn)程電流/電壓感應(yīng)；提供真空安全聯(lián)鎖裝置，*

大 180A，配有過流保護(hù)

樣品臺(tái)：可放置 12 個(gè)標(biāo)準(zhǔn) SEM 樣品座，高度可在 60mm 內(nèi)調(diào)節(jié)

模擬計(jì)量：真空 Atm - 0.01mb 電流: 0 - 200A

厚度監(jiān)測(cè)器： MTM-10 高精度厚度監(jiān)測(cè)器(選配)

控制方式：自動(dòng)蒸鍍控制，使用可編程電壓控制和計(jì)時(shí)；可選擇手動(dòng)操作或自動(dòng)控制

數(shù)字計(jì)時(shí) (0 – 30 秒)，數(shù)字電壓設(shè)定 (0.1 to 6.0V)

電源：200-240 VAC， 50/60Hz

功率：1000VA (包括鍍碳機(jī)和真空系統(tǒng))

SPI Supplies Vacu Prep II真空蒸發(fā)濺射儀

SPI Supplies Vacu Prep II 是一款快速、清潔、簡(jiǎn)便的自動(dòng)臺(tái)式高真空蒸發(fā)濺射儀。它利用固態(tài)電子控制泵送、蒸發(fā)和排氣序列。安全可靠，易于維護(hù)。SPI Supplies Vacu Prep II可用于常規(guī)碳鍍層或各種金屬材料的蒸發(fā)。所有系統(tǒng)操作通過互動(dòng)觸屏幕控制，易于掌握。用戶也可以通過屏幕監(jiān)視和管理系統(tǒng)的運(yùn)行，也可選擇手動(dòng)或自動(dòng)工作模式，完成工作。

SPI Supplies Vacu Prep II通過快速的泵送運(yùn)動(dòng)，能夠快速實(shí)現(xiàn)10-7 Torr范圍的極限真空。該設(shè)備的另一特色是擁有大型的工作平臺(tái)，可容納多個(gè)引線、夾具等。762.5px × 1142.5px的工作室可以為蒸發(fā)和濺射工作提供充足的空間。鐘罩可以輕松上升或下降。

渦輪分子泵是該系統(tǒng)的核心部件。復(fù)合渦輪分子泵操作的速度為60升/秒，在短時(shí)間內(nèi)可實(shí)現(xiàn)良好的真空水平。典型的泵送周期（10-5）可實(shí)現(xiàn)在10分鐘內(nèi)為一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)TEM網(wǎng)格的鍍碳。可通過液氮閥門調(diào)整泵送速率以達(dá)到更高的真空水平。

SPI Supplies Vacu Prep II配有安全聯(lián)鎖裝置，可保障操作者的安全，以及防止設(shè)備損壞。前面板上配有緊急關(guān)閉開關(guān)。

典型的應(yīng)用：

l電子顯微鏡樣品制備；

l關(guān)于透射電鏡和X射線分析的高真空碳鍍層工作；

l金屬化合物電阻蒸發(fā)；

l制備碳支持膜；

l碳鉑

l旋轉(zhuǎn)陰影

l孔徑清洗

l石棉分析

l故障分析

技術(shù)參數(shù)：