粉體行業在線展覽
面議
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儀器簡介:
K950X高真空蒸鍍儀在使用碳棒蒸鍍時可給出連續的碳膜,并且使用渦輪分子泵時無污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜,以及SEM中的導電涂層。
在厚度為2nm (20埃)或更厚時膜是連續的。*通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達到**電流密度,使得它具有足夠的溫度來引起蒸發。基于這點,出現了細小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統需要用擴散泵或渦輪分子泵達到1x10-4 mbar或更高的真空度。
渦輪分子泵在K950X中作為標準配置,此泵作為機械真空泵的后級泵,真空為全自動控制,真空度優于1x10-5 mbar。可進行預熱及除氣控制,同時用瞬時蒸發開關使脈沖蒸發在用戶控制下進行。
標準的旋轉樣品臺可進行傾斜調節,非常容易適應各種樣品座。可選的樣品臺具有特殊的凹槽,可放置標準的載玻片,這在“石棉分析”需要鍍碳層時尤為有利。
碳棒頭在儀器中作為標準件。這是一個“快速釋放頭”,使用戶在選擇金屬蒸發附件、碳絲及光闌清洗頭時可方便地更換。放氣系統具有互鎖裝置,避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上,并且可安全地“關閉”直接通大氣。
優點
● 容易操作
● 均勻的樣品涂層
● 方便多用戶操作
● 可用于蒸碳及蒸鍍金屬
● 在排氣過程中可防止樣品損壞
● 碳棒或碳絲蒸發
技術參數:
儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量:28Kg
工作腔室:硼硅酸鹽玻璃165mm Dia x 125mm H
安全鐘罩:聚碳酸酯
鋁機座:110mm Dia x 115mm H
碳 源:直徑3.2mm碳棒
旋轉樣品臺:直徑為60 mm,傾斜0-90o
到電極距離為110mm 到 130mm
真空計范圍:ATM - 1x10-5 mbar
操作真空:1x10-2 to 1x10-5 mbar
安培計:0-50 Amps
低電壓選擇:0-5V-15V-25V
除氣電流:0-25 Amps
渦輪分子泵:50L/Second
Services -Argon - Nominal 4psi. Rotary Backing Pump -Two Stage Vacuum Pump No. 2, 35L/Min complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter. 2m3/Hr
電源:230V 50Hz (包括泵**電流8 安培);115V 60Hz(包括泵**電流16 安培)
主要特點:
特點
● 全自動抽氣系統
● 旋轉樣品臺
● 菜單驅動式“用戶”鍵盤輸入
● 快速釋放頭方便選擇不同的頭
● 約束的排氣控制
● 渦輪分子泵抽真空