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儀器簡(jiǎn)介：

歐洲先進(jìn)的無(wú)掩膜激光直寫系統(tǒng)，*小線寬可達(dá) 100nm，為MEMS， BioMEMS， Micro Optics， ASICs， Micro Fluidics， Sensors， CGHs等以及相關(guān)微納米結(jié)構(gòu)領(lǐng)域的科研工作者，提供強(qiáng)有力的手段！

技術(shù)參數(shù)：

加工線寬：*小可達(dá) 100nm；

主要特點(diǎn)：

多種曝光模式：

2D曝光模式：構(gòu)建二維納米結(jié)構(gòu)；

3D曝光模式：可加工三維納米結(jié)構(gòu)；

壓電驅(qū)動(dòng)平臺(tái)配合精密自動(dòng)驅(qū)動(dòng)平臺(tái)，具有更高的水平定位分辨率；

系統(tǒng)自動(dòng)聚焦、糾斜、對(duì)準(zhǔn)；

多功能試樣夾具；

快速樣品樣品更換：<1秒；

專業(yè)圖形設(shè)計(jì)軟件：支持導(dǎo)入CAD設(shè)計(jì)軟件，2D和3D隨意簡(jiǎn)單設(shè)計(jì)；