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面議
1602
主要簡介:
UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結(jié)合的縮小投影型無掩模曝光系統(tǒng),其價格低于傳統(tǒng)系統(tǒng)(用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統(tǒng)) 可以使用專門為此目的開發(fā)的軟件來創(chuàng)建想要的圖案。
主要特點(diǎn):
l顯微鏡LED曝光裝置概述
l顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。
l使用金相顯微鏡盒LED光源DLP投影儀,將具有機(jī)微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進(jìn)行曝光。
l圖案可以在PC上自由創(chuàng)建。
l因?yàn)榭梢栽谄胀ǖ氖覂?nèi)環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極,所以它比電子束光刻便宜且簡單,不需要制造昂貴的電極圖案掩膜。
主要應(yīng)用:
l薄膜FET和霍爾效應(yīng)測量樣品的電極形成
l從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性
l研發(fā)應(yīng)用的圖案形成。
技術(shù)參數(shù):
由于顯微鏡和DLP的結(jié)合,可以用很低的成本來構(gòu)建系統(tǒng)
易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng)建曝光圖案
通過物鏡放大倍率圖案,可以進(jìn)行大范圍的批量曝光
可以連接到您自己的顯微鏡上(選項(xiàng))
分辨率在微米級
曝光范圍:2.5mm×1.5mm *小100um×60um
可以連接到您自己的顯微鏡上(選項(xiàng))
分辨率在微米級
曝光范圍:2.5mm×1.5mm *小100um×60um
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)