粉體行業在線展覽
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上海載德半導體技術有限公司
韓國
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光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；ECOPIA為全球**的半導體設備供應商，多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上*早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多**企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
產地：韓國ECOPIA公司，**能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：M-150
技術規格：
- 掩模尺寸：**7英寸；
- 樣品尺寸：**6英寸；
- 卡盤移動：X，Y，Z，Theta軸手動，楔形補償調平；
- 紫外光源：6.25" X 6.25"；
- 光源功率：350瓦紫外燈；
- 光源均勻性：<+/-3%；
- 光源365nm波長強度：**30毫瓦；
- 顯微鏡：雙顯微鏡系統；
- 顯微鏡移動：X，Y，Z軸手動調節；
- 顯微鏡物鏡空間：50-150mm；
- 標配放大倍率：80X-400X；
- 顯示器：20" LCD；
- 曝光時間：0.1-999秒；
- 接觸模式：真空接觸，硬接觸，軟接觸，接近接觸(距離可調)；
- 對準精度：1um (Vacuum Contact)， 1.5um(Hard Contact)， 3um(Soft Contact)， 5um(Proximity Mode)；
- 電源：220V，單相，15安培；
主要特點:
- 光源強度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系統控制：手動、半自動和全自動控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調)，Proximity接近模式， 投影模式；
- 真空吸盤范圍可調；
- **技術：可雙面對準，可雙面光刻，具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統，**放大1000倍，顯示屏直接調節，比傳統目鏡對準更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盤可定做；
- 具有楔形補償功能；
