粉體行業(yè)在線展覽
面議
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產(chǎn)地:美國,韓國;
型號:PS-100, EURA-100;
等離子去膠機(jī)主要用于光刻膠的剝離或灰化,也可用于:
1.有機(jī)及無機(jī)殘留物的去除
2. 去除殘膠以及等離子刻蝕的應(yīng)用
3.清洗微電子元件、電路板上的鉆孔或銅線框架
4.提高黏附性,消除鍵合問題
5.塑料的表面改性:O2處理以改進(jìn)涂覆性能
6.產(chǎn)生親水或疏水表面等
主要配置:
1.載片(Wafers):直徑不大于100 mm(或200mm)的各種基片
2.工藝氣體(Gas lines):O2, N2
3.射頻源(Source):50 ~ 500W(13.56 MHz)連續(xù)可調(diào),全自動匹配
4.氣體流量(Gas flow):MFC精確調(diào)控
5.產(chǎn)能:每次20片,每個循環(huán)約5分鐘(輝光1分鐘)
6.可升級到反應(yīng)離子蝕刻(RIE)功能
參考用戶:
廣東工業(yè)大學(xué)等;
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)