粉體行業在線展覽
M5111-8WKUM型高溫負壓氧化爐設備
面議
電子科技
M5111-8WKUM型高溫負壓氧化爐設備
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高溫氧化爐是半導體器件加工中的典型熱處理設備,用于集成電路、分立器件、太陽能光伏行業中進行氧化、退火、合金及燒結等工藝。
高產能,單管產能可達1600片/批;
溫控系統性能出色,采用可預測型五段雙回路智能溫控系統以及新型爐體,控溫精度和回溫性能優異;
全套倍福系統及總線控制方式,可靠性和信息化化性能優異;
自動上下料系統,采用全自動上下料、在線式插取片對接系統,擴展了設備自動化程度,降低人工勞動強度,減少人工污染。
產能 | 硅片尺寸 | 156×156mm方片 |
單管裝片量 | 1600片/批(槽間距2.38mm) | |
工藝類型 | 高溫氧化、退火工藝 | |
溫度控制系統 | 控溫方式 | 5段雙回路串級控制 |
控溫范圍 | 600℃~1100℃ | |
恒溫區長度及精度 | ≤±0.5℃/1600mm(801℃~1100℃) ≤±1℃/1600mm(400℃~800℃) | |
單點穩定性 | ±0.5℃/24h(靜態,900℃) | |
爐體升降溫速率 | **升溫20?C/min;**降溫5?C/min | |
氣路系統 | 流量控制方式 | 氮氣、氧氣流量由MFC控制;保護氮氣由浮子流量計控制 |
氣體控制精度 | ±0.5%FS | |
送舟機構 | 水平推舟速率 | 1~400mm/min 連續可調,定位精度≤±1mm |
垂直升降速率 | 8~12mm/min | |
石英舟進出方式 | 軟著陸、在線式(凈化臺側出舟) | |
SiC槳**承載 | 25Kg | |
控制系統 | 工藝監控方式 | 工業平板電腦全自動控制(觸摸屏操作) |
自動控溫功能 | 具有自動斜率升降溫及恒溫功能 | |
工藝歷史記錄功能 | 核心工藝參數(溫度、壓力、流量、功率、電流、淀積時間)每3秒記錄一次,其他過程每10秒記錄一次。 | |
報警保護功能 | 設備具有工藝狀態聲光提醒,以及計算機異常、超溫報警與欠溫、MFC偏差、反應室壓力偏差、極限超溫報警和保護功能; | |
其他參數 | 設備峰值功率 | 280 KVA(5管) |
保溫功率 | 75 KVA(5管) | |
設備柜體尺寸 | 7440mm(長)×2020mm(寬)×3530(高) | |
設備利用率 | ≥98% |