粉體行業在線展覽
NV-150型MBE系統
面議
電子科技
NV-150型MBE系統
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生長室
· 極限真空5E-11Torr
· 6英寸或3×3英寸襯底
· 12個源爐口
· 可選E-gun系統
· 襯底**加熱至1000°C
· 多種束源爐擋板可選
緩沖室
·極限真空SE-10Torr
·可選集成式高溫除氣臺
·可選獨立預處理室
·易于擴展、多腔互聯
·線性手動/自動傳輸
進樣室
· 快開門設計
· 可裝載7片晶圓
· 紅外燈管加熱
· 晶圓升降電動控制
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機