粉體行業在線展覽
HVCVD
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HVCVD
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本設備主要用于碳素制品的化學氣相沉積增密處理,或以碳氫氣體為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理及碳氈制品真空碳化其熱處理。
設備用途
本設備主要用于碳素制品的化學氣相沉積增密處理,或以碳氫氣體為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理及碳氈制品真空碳化其熱處理。
設備特點
1. 雙層SUS304爐體結構,中間通以冷卻水,有效降低爐體表面溫度,減少高溫傷害,降低對環境的影響;
2. 采用先進的保溫材料及隔熱結構,導熱系數低,保溫效果好,即使在很高的溫度下也能有效隔絕熱量,節約能耗;
3. 能夠準確控制氣體流量和壓力,通過特殊的導氣結構和裝置,大大提高產品的合格率,降低沉積時間;
4. 通過特殊的過濾裝置,使其熱解過程的碳粉幾乎完全過濾,不進入真空機組,大大延長了真空機組的使用壽命;
5. 人性化配置,既可以手動操作,也可以實現一鍵智能操作;
6. 型式多樣化,立式上開門、立式底升式、臥式側開門,任意選擇;
7. 本產品接受非標定制。
設備參數
型號 | 工作區尺寸 | **溫度 | 溫度均勻性 | 冷態極限真空度 | 壓升率 | 加熱功率 |
HVCVD-2030 | Φ200×300 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 25 |
HVCVD-2540 | Φ250×400 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 40 |
HVCVD-3050 | Φ300×500 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 55 |
注:以上技術參數可根據工藝進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。 |