粉體行業在線展覽
CVD/CVI/PECVD
面議
CVD/CVI/PECVD
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設備特點
1. 高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成,**真空可達10-4Pa;
2. 可配合壓強控制儀控制氣體壓力,實現負壓的精準控制;
3. 數字質量流量控制系統是由多路質量流量計,流量顯示儀等組成,實現氣體的流量的精密測量和控制;
4. 每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統的安全性和連續均勻性;
5. 采用KF快速法蘭密封,裝卸方便快捷;
6. 管路采用世界**Swagelok卡套連接,不漏氣;
7. 超溫、過壓時,自動切斷加熱電源及流量計進氣,使用安全可靠;
8. PECVD借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,更容易發生反應。
設備參數
類別 | 加熱爐 | 射頻電源 | 真空系統 | 混氣系統 | 壓強控制系統 | 尾氣處理系統 | ||||
溫度 | 加熱區 | 型式 | 管徑 | 長度 | ||||||
CVD | 1200~ 1700℃ | 220~ 440mm | 臥式、滑動式 | Φ60~ Φ100 | 600~ 1600 | 無 | 10Pa | MFC單路或多路控制 | 可選 |
(可選) |
CVI | 1200~ 1700℃ | 220~ 440mm | 立式、滑動式 | Φ60~ Φ100 | 600~ 1600 | 無 | ||||
PECVD | 1200℃ | 220~ 440mm | 臥式、滑動式 | Φ60~ Φ100 | 1200~ 1600 | 300~ 500W |