粉體行業(yè)在線展覽
面議
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橢圓偏振光譜儀主要用于準(zhǔn)確測量薄膜厚度,光學(xué)常數(shù),薄膜表面粗糙度以及其他的物理,化學(xué),光學(xué)性能。美國AST公司設(shè)計和制造適合不同應(yīng)用的高品質(zhì)橢圓偏振光譜系統(tǒng),其產(chǎn)品具有強大的分析功能軟件TFProbe3.0,可以幫助研發(fā)或?qū)嶒炄藛T迅速地獲得薄膜的厚度,表面粗糙度,合金成分和介電常數(shù)等數(shù)據(jù)。
產(chǎn)品特點:
易于安裝
基于視窗結(jié)構(gòu)的軟件,很容易操作
先進的光學(xué)設(shè)計,以確保能發(fā)揮出好的系統(tǒng)性能
能夠自動的以0.01度的分辨率改變?nèi)肷浣嵌?/p>
高功率的DUV-VIS光源,能夠應(yīng)用在很寬的波段內(nèi)
基于陣列設(shè)計的探測器系統(tǒng),以確??焖贉y量
zui多可測量12層薄膜的厚度及折射率
能夠用于實時或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率等參數(shù)
系統(tǒng)配備大量的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫
對于每個被測薄膜樣品,用戶可以利用先進的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫、也可以進行色散或者復(fù)合模型(EMA)測量分析
三種不同水平的用戶控制模式:專家模式、系統(tǒng)服務(wù)模式及初級用戶模式
靈活的專家模式可用于各種獨特的設(shè)置和光學(xué)模型測試
健全的一鍵按鈕(Turn-key)對于快速和日常的測量提供了很好的解決方案
用戶可根據(jù)自己的喜好及操作習(xí)慣來配置參數(shù)的測量
系統(tǒng)有著全自動的計算功能及初始化功能
無需外部的光學(xué)器件,系統(tǒng)從樣品測量信號中,直接就可以對樣品進行準(zhǔn)確的校準(zhǔn)
可調(diào)節(jié)高度及傾斜度
能夠應(yīng)用于測量不同厚度、不同類型的基片
各種方案及附件可用于諸如平面成像、測量波長擴展、焦斑測量等各種特殊的需求
2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面。
可用于微觀區(qū)域選項的數(shù)字成像工具
對整個小區(qū)域可進行反射測量的整體式反射計
系統(tǒng)配置:
型號:SE200BA-MSP-M300
探測器:陣列探測器
光源:高功率的DUV-Vis-NIR復(fù)合光源
指示角度變化:可編程設(shè)定,自動可調(diào)
平臺:ρ-θ配置的自動成像
軟件:TFProbe 3.2版本的軟件
整合了SE和MSP系列的優(yōu)點
計算機:Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器
電源:110–240V AC/50-60Hz,6A
保修:一年的整機及零備件保修
基本參數(shù):
波長范圍:250nm到1000 nm
波長分辨率: 1nm
光斑尺寸:1mm至5mm可變
入射角范圍:10到90度
入射角變化分辨率:0.01度
數(shù)字成像像素:130萬
有效放大倍數(shù):1200×
長物鏡工作距離:12mm
MSP光速尺寸:2-500μm可調(diào)
樣品尺寸:zui大直徑為300mm
基板尺寸:zui多可至20毫米厚
測量厚度范圍*:0nm〜10μm
測量時間:約1秒/位置點
精度*:優(yōu)于0.25%
重復(fù)性誤差*:小于1 Ǻ
產(chǎn)品可選項:
用于反射的光度測量或透射測量
用于測量小區(qū)域的微小光斑
高分辨率數(shù)字攝像頭
用于MSP的超長物鏡
X-Y成像平臺(X-Y模式,取代ρ-θ模式)
加熱/致冷平臺
樣品垂直安裝角度計
波長可擴展到遠DUV或IR范圍
掃描單色儀的配置
應(yīng)用領(lǐng)域:
玻璃鍍膜領(lǐng)域(LowE、太陽能…)
半導(dǎo)體制造(PR,Oxide, Nitride..)
液晶顯示(ITO,PR,Cell gap... ..)
醫(yī)學(xué),生物薄膜及材料領(lǐng)域等
油墨,礦物學(xué),顏料,調(diào)色劑等
醫(yī)藥,中間設(shè)備
光學(xué)涂層,TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
半導(dǎo)體化合物
在MEMS/MOEMS系統(tǒng)上的功能性薄膜
非晶體,納米材料和結(jié)晶硅
詳情關(guān)注:北京燕京電子有限公司
TH-F120
在線折光儀PRB21
ParticleX TC
觀世
在線濁度計
CELL PAT
FS500全譜直讀光譜儀
OES1000
蜂鳥10X42
Nanocoulter