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TC2000EXW半導(dǎo)體制冷恒溫槽
面議
艾科威
TC2000EXW半導(dǎo)體制冷恒溫槽
891
設(shè)備特點(diǎn)
●采用半導(dǎo)體制冷技術(shù)、設(shè)備穩(wěn)定可靠,無噪音
●自整定PID調(diào)節(jié),進(jìn)口鉑電阻測溫,控溫精度高、波動(dòng)度小
●內(nèi)膽及表面面材料設(shè)計(jì),防止機(jī)臺(tái)自身產(chǎn)生灰塵、腐蝕、生銹等現(xiàn)象,無塵級(jí)別滿足100 級(jí)
●儀器工作穩(wěn)定可靠,操作方便安全。
技術(shù)指標(biāo)
●源瓶尺寸:直徑Ф140mmX160mm
●制冷方式:采用半導(dǎo)體制冷技術(shù)
●溫度范圍:15℃~45℃
●溫度精度:±o.2℃
●額定功率:500W
●額定電流:3A
●環(huán)境溫度:15℃~45℃
應(yīng)用范圍
用于石油、化工、電子儀表、物理、化學(xué)、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué)、輕工食品、物性測試及化學(xué)分析等研究部門,高等院校,企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門。
TC2000EXW半導(dǎo)體制冷恒溫槽
反應(yīng)離子刻蝕機(jī)( RIE )
離子束刻蝕機(jī)
磁控濺射鍍膜機(jī)
管式真空爐
低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備( LPCVD)
雙管立式爐
擴(kuò)散氧化爐(科研型)
擴(kuò)散氧化爐(生產(chǎn)型)
立式爐