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儀器簡介：

Ion Beam Assisted Deposition (離子輔助沉積)

離子輔助沉積已經(jīng)成為在無規(guī)取向的基片或無定形基片上沉積雙軸結構薄膜的一種重要技術

高性能的IBAD(離子輔助沉積)系統(tǒng)

離子輔助沉積已經(jīng)成為在無規(guī)取向的基片或無定形基片上沉積雙軸結構薄膜的一種重要技術。Neocera開發(fā)了離子輔助的PLD系統(tǒng)，該系統(tǒng)將PLD在沉積復雜材料方面的優(yōu)勢與IBAD能力結合在一起。得到無人倫比的技術專家知識的支持Neocera離子輔助的PLD系統(tǒng)會得到重要應用經(jīng)驗的支持。系統(tǒng)開發(fā)結合了Neocera的工程和工藝經(jīng)驗，保證了**的用途和工藝性能。

利用離子輔助的PLD， Neocera在柔性多晶yttria穩(wěn)定的YSZ基片上，開發(fā)了具有下列性能的雙軸結構的YBCO薄膜：

l X-ray F-scan full width at half maximum of ~7°

l 轉變溫度Tc在88-89K，轉變寬度DTc約為約為0.5 K

l 77 K零場強時，臨界電流密度Jc范圍; 1.5—2x106 A/cm2

l 77 K時，磁深入深度l: 284nm

l 77 K，10G時，表面電阻Rs等于700mW

Continuous Composition Spread (連續(xù)組成擴展)

一種基于脈沖激光沉積的、組合材料合成的新型連續(xù)組成擴展(CCS)方法。

經(jīng)濟的組合合成

組合合成是材料科學中*激動人心的**進展。在一次鍍膜實驗中，生產(chǎn)多種不同材料組成的能力，大大的提高了獲得具有期望材料性能的**組成的速度。然而，現(xiàn)有組合合成系統(tǒng)的高成本對絕大多數(shù)研究預算來說都是不切合實際的。

得到Neocera PLD經(jīng)驗的支持

Neoceora已經(jīng)應用我們豐富的PLD和開發(fā)性能可靠的經(jīng)濟型設備的經(jīng)驗，發(fā)明了PLD-CCS(脈沖激光沉積-連續(xù)組成擴展)系統(tǒng)。PLD-CCS受益于多層薄膜沉積的方便性和PLD工藝能在基片上改變二元，假二元，或三元體系的組成這一固有特性。

常規(guī)沉積條件下的組合合成

PLD-CCS能以連續(xù)的方式，而不是間隔的方式改變材料，沒有必要使用掩模。這就允許在每一次循環(huán)中，以小于一個單分子層的速率，快速連續(xù)沉積每一種組份，其結果是基本等同于共沉積法。事實上，該法無需在沉積后進行退火促進內部擴散或結晶，對于生長溫度是關鍵參數(shù)的研究或者被沉積的材料或基片不適合高溫退火的情況是有用的。

Laser MBE (激光分子束外延)

一種納米尺度薄膜合成的理想方法，PLD和原位高壓RHEED的結合，

為單分子水平上的薄膜生長提供了精確控制。

使用激光MBE是納米技術研究的理想工具

激光MBE是普遍采用的術語，定義了高真空下的PLD與在線工藝監(jiān)測的反射高能電子衍射（RHEED）的聯(lián)合應用。該法為用戶提供了類似于MBE的薄膜生長的單分子水平控制。隨著更多的PLD研究受到納米技術的驅動，激光MBE變得對用戶更加有益。

正確的設計是成功使用RHEED和PLD的重要因數(shù)

RHEED通常在高真空（<10-6 torr）環(huán)境下使用。然而，因為在某些特殊情況下，pld采用較高的壓力，差動抽氣是必要的，維持rheed槍的工作壓力，同時保持500 mtorr的pld工藝壓力。同時，設計完整的系統(tǒng)消除磁場對電子束的影響是至關重要的。

Neocera的激光MBE系統(tǒng)為用戶在壓力達到500mTorr時所需的單分子層控制。

技術參數(shù)：

一種用途廣泛的、用于薄膜沉積和合成納米結構和納米粒子的方法。

PLD是一種復雜材料沉積的創(chuàng)新方法

激光脈沖鍍膜(PLD)是一種用途廣泛的薄膜沉積技術。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD的獨特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時，工作壓力的動態(tài)范圍很寬，達到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨特功能的納米結構和納米顆粒。另外，PLD是一種“數(shù)字”技術，在納米尺度上進行工藝控制（A°/pulse）。

Neocera Pioneer系列 PLD系統(tǒng)­— 基于**經(jīng)驗的有效設計

Neocera利用PLD開展了深入廣泛的研究，建立了獲得**薄膜質量的臨界參數(shù)，特別適用于沉積復雜氧化物薄膜。這些思考已經(jīng)應用于Pioneer系統(tǒng)的設計之中。

很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧氣壓力（>100 Torr）下冷卻是有利的。所有Pioneer系統(tǒng)設計的工作壓力范圍從它們的額定初始壓力到大氣壓力。這也有益于納米粒子的生成。

Pioneer PLD系統(tǒng)的激光束的入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的**均勻性，同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。淺的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點，導致密度均勻性的損失。

為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵流體，消除擔心油的回流對薄膜質量的影響，所有Pioneer系統(tǒng)的標準配置都采用無油泵系統(tǒng)。

所有的系統(tǒng)都可以按完整PLD實驗室的方式獲得，包括248nm激光器，激光氣體柜，激光和光學器件臺，光學器件包。

我們的研究表明靶和基片的距離是獲得**薄膜質量的關鍵參數(shù)。Pioneer系統(tǒng)采用可變的靶和基片的距離，對沉積條件進行**的控制。

主要特點：