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WITec公司的alpha300 A原子力顯微鏡基于研究級(jí)光學(xué)顯微鏡而設(shè)計(jì)，

是一款可靠、高端的納米成像系統(tǒng)，同時(shí)具有優(yōu)異的光學(xué)接入、

簡(jiǎn)易懸臂定位與原子級(jí)高分辨率。采用高精度陶瓷掃描臺(tái)及樣品臺(tái)掃描方式，

AFM探針獲得樣品表面形貌圖像。

該AFM采用光學(xué)顯微鏡配備高端相機(jī)，有助于高分辨率的樣品挑選與測(cè)量。

同時(shí)觀測(cè)樣品與AFM探針非常有利于樣品定位及掃描區(qū)域調(diào)整。

光學(xué)顯微鏡可實(shí)現(xiàn)更多的照明及檢測(cè)方式，如明暗場(chǎng)，偏光分析及寬場(chǎng)熒光等， 

用戶可以進(jìn)一步挑選感興趣的樣品區(qū)域。用戶只需旋轉(zhuǎn)物鏡轉(zhuǎn)盤，

就可以在AFM與光學(xué)顯微鏡之間輕松切換，依舊保留光學(xué)顯微鏡與AFM性能。

關(guān)鍵特性

納米尺度的表面表征

橫向分辨率：低至1 nm

深度分辨率：< 0.3 nm

包含多種AFM模式

在空氣與液體中均可使用

獨(dú)特的懸臂技術(shù)，方便的懸臂交換和對(duì)準(zhǔn)

精確的TrueScan?控制掃描臺(tái)：

可選擇的掃描范圍30 x 30 x 20μm3;100 x 100 x 20μm3;或200 x 200 x 20μm3

非破壞性的成像技術(shù)

共焦拉曼成像和近場(chǎng) (SNOM)可在一臺(tái)顯微鏡上進(jìn)行升級(jí)

AFM模式

接觸模式

樣品掃描時(shí)域探針直接接觸，通過懸臂梁的傾斜及角度來記錄表面形貌

AC（TappingTM 輕敲）模式（又稱間歇接觸模式）

抬高模式（Lift ModeTM）

數(shù)字脈沖力模式（DPFM）

磁力顯微鏡（MFM）

測(cè)量樣品上磁場(chǎng)的一種非接觸模式

靜電力顯微鏡

測(cè)量靜電力顯微鏡的一種非接觸模式

記錄并描繪間歇（輕敲）

模式中的相位偏移信號(hào)

納米操縱/壓印

開爾文探針顯微鏡

表面勢(shì)測(cè)量

橫向力顯微鏡（LFM）

揭示表面摩擦特性的一種接觸模式

化學(xué)力顯微鏡（CFM）

測(cè)量范德華力等化學(xué)相互作用的接觸或間歇模式

其他模式可選