粉體行業(yè)在線展覽
面議
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儀器簡介:
應(yīng)用:
◆ 二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自動沉積工藝。
技術(shù)參數(shù):
SKY公司的C1 PECVD設(shè)備是買斷Novellus C1型號的技術(shù)授權(quán)在國內(nèi)生產(chǎn)的PECVD設(shè)備,所有性能指標(biāo)均和美國原產(chǎn)地Novellus C1相同,配件國產(chǎn)率超過70%。 SKY公司依托Novellus公司的技術(shù)授權(quán),擁有本地及回國人員組成的強大技術(shù)團隊,目前產(chǎn)品主要應(yīng)用于4~6”主流硅半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體及MEMS領(lǐng)域。
主要特點:
◆ 高度穩(wěn)定的均勻性;
◆ 高度穩(wěn)定的折射率;
◆ Novellus技術(shù)授權(quán);
◆ 零部件國產(chǎn)化及穩(wěn)定的零部件供應(yīng);
◆ 菜單式二氧化硅、氮化硅、氮氧硅全自動沉積工藝;
◆ 真空室(沉積室)等離子體自動刻蝕清洗;
◆ 雙頻RF/LF電源發(fā)生器;
◆ 阻抗匹配器自動調(diào)節(jié);
◆ 單腔(七片)、連續(xù)(七十五片)自動轉(zhuǎn)換沉積。