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ASML二手DUV光刻機(jī)
面議
佳鼎半導(dǎo)體
ASML二手DUV光刻機(jī)
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TWINSCAN XT:450G 365-nm步進(jìn)式掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級(jí)光刻工具,設(shè)計(jì)用于批量生產(chǎn)分辨率低至 220-nm 及以上的關(guān)鍵 i-line 應(yīng)用。TWINSCAN 平臺(tái)的雙晶圓臺(tái)技術(shù)使一個(gè)晶圓的曝光和下一個(gè)晶圓的對(duì)齊和映射能夠并行進(jìn)行,從而幾乎消除了開銷時(shí)間并允許對(duì)晶圓進(jìn)行連續(xù)圖案化。
此外,高強(qiáng)度 5.5 kW Hg 燈和快速臺(tái)通過(guò)*小化每個(gè)場(chǎng)的曝光掃描時(shí)間和場(chǎng)之間的步進(jìn)時(shí)間來(lái)確保**生產(chǎn)力。液位傳感器與 TWINSCAN 調(diào)平方法相結(jié)合,幾乎消除了內(nèi)部芯片和邊緣芯片之間的差異,并確保整個(gè) 300 毫米晶圓的高良率。高吞吐量和產(chǎn)量與快速的標(biāo)線交換時(shí)間和批量流式傳輸相結(jié)合,可提供*低的運(yùn)營(yíng)成本。
該工具出色的疊加和成像功能允許將非關(guān)鍵 KrF 層轉(zhuǎn)換為 i-line,從而顯著節(jié)省成本。
槽式清洗機(jī) Ultron B200
單片式濕法清洗設(shè)備 Ultron S200/S300
全自動(dòng)晶圓清洗機(jī) AWS150
SCREEN二手清洗設(shè)備WS-820L
SUSS半自動(dòng)濕法處理設(shè)備AD12
球差場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡 HF5000
超高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡Regulus系列
AMAT 半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備 SEMVision G2
KLA無(wú)圖案晶圓缺陷檢測(cè)系統(tǒng)Surfscan SP2
TOPCON拓普康芯片外觀檢測(cè)設(shè)備Vi4202
PVA TEPLA / TECHNICS GIGA 690二手現(xiàn)貨刻蝕機(jī)
PVA TEPLA / TECHNICS GIGABATCH 360M刻蝕機(jī)
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)