粉體行業在線展覽
Helios 5 Laser PFIB TEM
面議
賽默飛世爾科技
Helios 5 Laser PFIB TEM
5245
Thermo Scientific? Helios? 5 Laser PFIB提供了****的能力,極端大體積3D分析,Ga-free樣品制備,和精密微加工。具有創新的,完全集成的飛秒激光器,它提供*快的材料去除率和**的切割面質量,是毫米尺度范圍納米分辨率下*快的高質量亞表面和三維表征設備。
產品參數
飛秒激光PFIB
**體積:2000×2000×1000μm3
**束流:~1mA(等效于離子束電流)
切割束流:74μA
束斑尺寸:15μm
激光集成:3束(SEM/PFIB/激光)完全集成在樣品室中,并具有相同的重合點,
實現精確、可重復的切割位置和三維表征。
一次諧波:波長1030 nm(紅外),脈沖寬度<280 fs
二次諧波:波長515 nm(綠),脈沖寬度<300 fs
電子光學:
☆ 三束重合點 WD=4 mm(與SEM/FIB相同)
☆ 可變物鏡(電動)
☆ 偏光:水平/垂直
☆ 重復率: 1 kHz~1 MHz
☆ 光束定位精度:<250 nm
保護擋板:自動SEM/PFIB保護擋板
軟件:
☆ 激光控制軟件
☆ 激光三維連續切片工作流程
☆ EBSD激光三維連續切片工作流程
☆ 激光編程控制腳本*
安全性:互鎖式激光防護罩(1 類激光安全)
特點和用途
☆ *快的毫米級橫截面材料去除,材料去除率比典型的Ga + FIB要快15,000倍
☆ 通過在更短的時間內采集更大的體積來實現統計學相關的表面下和三維數據分析
☆ 準確、可重復的切割位置,三束交于樣品上同一點
☆ 通過提取表面下TEM薄片或塊體進行三維分析來實現深層表面下特征快速表征
☆ 實現對不導電或對離子束敏感等具有挑戰性的材料進行高吞吐量處理
☆ 實現對空氣敏感樣品的快速和簡單表征,無需在不同儀器之間傳送樣品來進行成像和獲取橫截面
☆ Helios 5 PFIB平臺的所有功能都非常可靠,包括**質量的無鎵 TEM和APT樣品制備以及極高分辨率成像能力
Scios 2 DualBeam
Helios 5 Laser PFIB TEM
Helios 5 DualBeam FIB
Apreo 2
Axia ChemiSEM
Prisma E SEM
Quattro-
F200C(S)TEM
CleanMill
Murano 525
Talos F200X S/TEM
F200S G2 200kV
場發射掃描電鏡 SEM5000
Veritas
Quattro-
Pharos-STEM
INNO-SCAN 3D掃描儀
KYKY-EM8100
EM-30+
Transcend II
Hitachi FlexSEM 1000
略
美國Fauske 快速掃描絕熱量熱儀-ARSST
MIRA 3 GMU/GMH