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面議
522
英國Oxford等離子去膠機(jī)(灰化)Plasma Stripper (Asher)
應(yīng)用:從蝕刻晶圓片上移除光刻膠
流程配置: RIE/ICP
工作原理
。使用等離子體源,生成單原子反應(yīng)種。
。氧是*常見的反應(yīng)物質(zhì)。反應(yīng)性物質(zhì)與光阻結(jié)合形成灰,
。用真空泵將其除去。
。ICP結(jié)構(gòu)避免了高能離子轟擊和電容耦合,
。提供低襯底損傷。
可用氣體: O2, N2O
主要性能:
。開放式設(shè)計(jì),可快速加載和卸載晶圓。
。基片放置在石英上,以避免濺射/再沉積電極材料
。通過頂部電極上的“蓮蓬頭”進(jìn)氣口將氣體注入工藝室
。電感耦合等離子體(ICP)和電極的獨(dú)立射頻發(fā)生器提供對離子能量和離子密度的獨(dú)立控制
。高電導(dǎo)泵浦端口提供高的氣體吞吐量,以*快的腐蝕速率
。使用等離子體源,生成單原子反應(yīng)種。氧是*常見的反應(yīng)物質(zhì)。
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)