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氣相沉積設(shè)備ATS500
面議
創(chuàng)世杰
氣相沉積設(shè)備ATS500
461
ATS 500設(shè)計(jì)用于OLED、有機(jī)電子應(yīng)用、光伏、半導(dǎo)體器件、透鏡和光學(xué)濾波器的研發(fā)和小批量生產(chǎn)。
系統(tǒng)特色是配有全彩觸摸屏的PLC,集成了工藝菜單控制和數(shù)據(jù)記錄功能,可以選配全電腦控制。
ATS 500提供廣泛的工藝選項(xiàng),包括:
熱阻蒸發(fā)源。
溫度控制蒸發(fā)源,用于OLED和有機(jī)光伏應(yīng)用。
電子束蒸發(fā)源,用于高速率蒸發(fā)。
離子束輔助,用于光學(xué)應(yīng)用或者基板清洗。
DC、RF和脈沖DC源,用于金屬和電解質(zhì)向上或者向下的濺射工藝。
以上兩個(gè)或者多個(gè)功能的混合系統(tǒng)
MPCVD微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
氣相沉積設(shè)備ATS500
反應(yīng)離子刻蝕PECVD系統(tǒng)
化學(xué)氣相沉積PECVD系統(tǒng)
方腔式電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
4900/5700型電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MPCVD
真空共晶回流焊爐
AF8500 自動(dòng)平行封焊機(jī)
SM8500 手動(dòng)平行封焊機(jī)
Projection 激光封焊儲(chǔ)能焊機(jī)
手套箱系列
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)