粉體行業在線展覽
美國SVT 脈沖激光沉積設備
面議
北京中精儀
美國SVT 脈沖激光沉積設備
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美國SVT 脈沖激光沉積設備/PLD應用
● 多元素復合氧化物
● 高溫超導材料
● 磁性材料、金屬材料
● 低蒸汽壓材料
● MEMS
基本系統
腔室及真空泵
12’’ 快速門,250l/s 分子泵,全量程規
沉積源
靶臺,6X1’’(25mm) 靶,可以水平旋轉,可Z方向移動
樣品臺
1’’(25mm)大小,可加熱至800oC(1000oC可選),可水平旋轉,可Z方向移動
在線工藝監控
石英晶振沉積速率監控儀
自動化
自動化裝置:
控制樣品溫度和旋轉
靶臺的位置控制
靶臺旋轉
氣體控制
速率及厚度計算(利用QCM輸出)
激光束掃描(可選)
激光束屏蔽控制
自動泵抽和充氣
差分泵抽結構
RHEED分析(可選)
裝載室壓強監控(可選)
美國SVT 脈沖激光沉積設備/PLD主要特點
RF射頻等離子源(氧,氮)
升級高真空
增加進樣室
升級為Laser-MBE (L-MBE)系統
自動軟件控制
提供更潔凈的薄膜生長環境,控制解決方案