粉體行業在線展覽
臥式LPCVD
面議
賽瑞達
臥式LPCVD
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設備主要特點
◎ 采用先進的閉環控制系統,壓力穩定無波動
◎ 高精度溫控系統
◎ 工藝薄膜均勻性優異
★支持SECS/GEM通訊
主要技術指標
◎ 適用硅片尺寸:4~6"
◎ 工作溫度范圍:350℃~800℃
◎ 恒溫長度:300-1100mm(可定制)
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機