粉體行業在線展覽
晶圓光刻膠
面議
湖北鼎龍
晶圓光刻膠
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晶圓光刻膠是半導體制造光刻工藝中*關鍵的材料。在光刻過程中,光刻膠經涂膜,前烘,曝光,后烘,顯影等步驟后可將電路圖形由掩模版轉移到光刻膠上,再經過刻蝕工藝,實現電路圖形由光刻膠轉移到硅片上。隨著集成電路線寬縮小、集成度的提升,光刻膠開發技術難度大幅增加,成為延續摩爾定律的關鍵技術之一。
XRD-晶向定位
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等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
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定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
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