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IS磁控濺射鍍膜機(jī)
面議
純?cè)村兡?/p>
IS磁控濺射鍍膜機(jī)
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主要特點(diǎn)
1、具備加熱、離子束濺射清洗和磁控濺射沉積金屬層的能力;
2、腔室圓周壁安裝磁控濺射源、離子束清洗源和加熱器,底部布置高真空抽氣系統(tǒng)。頂部有旋轉(zhuǎn)基片架驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和真空度測(cè)量系統(tǒng) ;
3、設(shè)備采用全自動(dòng)控制系統(tǒng),能控制工藝溫度、膜層厚度,能對(duì)微孔內(nèi)壁鍍膜;
4、腔室內(nèi)設(shè)置多路偏壓板,每路偏壓能夠獨(dú)立調(diào)節(jié),自由控制通斷以及接地設(shè)計(jì)。偏壓由基片架轉(zhuǎn)軸引入腔室;
5、行星轉(zhuǎn)架底座為公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu),而偏壓板底座和基片(電路板)底座為公轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu);
6、突出安全性設(shè)計(jì):設(shè)備中外露部分,包括真空腔室、抽氣系統(tǒng)、離子源背部等能觸摸到的表面,全部接地保護(hù);內(nèi)部帶電部分也有明顯警示標(biāo)志。設(shè)備控制軟件設(shè)有自動(dòng)保護(hù)功能。
技術(shù)優(yōu)勢(shì)
1、 離子束清洗源產(chǎn)生的高能Ar離子,清洗轟擊基底表面,可以提高膜層的粘附性;
2、 布?xì)庀到y(tǒng),氣體流量均利用質(zhì)量流量計(jì)分別進(jìn)行定量控制;
3、 溫度監(jiān)控采用熱偶絲方式,腔室壁設(shè)置加熱器,通過溫度傳感器進(jìn)行加熱控制。真空室外壁設(shè)置水冷,能確保**加熱溫度條件下控制外壁溫度不高于40攝氏度;
4、 設(shè)備鍍膜源的安裝法蘭采用合頁鉸鏈設(shè)計(jì),換靶方便,離子源和加熱器維護(hù)操作簡單。所有的磁控濺射離子源、離子束清洗源的安裝法蘭采用相同尺寸,互換性強(qiáng),工藝靈活性高;
5、 設(shè)備采用工控機(jī)+PLC控制方式,完全自動(dòng)化界面控制,具備工藝配方自動(dòng)運(yùn)行能力。
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER? 三位全自動(dòng)熔片儀
NVT-HG型 單晶生長爐