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RIE(Reactive Ion Etching)離子刻蝕機：系列設備為真空等離子刻蝕機屬于電子工業的干法清洗，工藝氣體在電子區域形成等離子體，并產生電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面，等離子體在工件表面發生反應，從而實現清潔、改性、刻蝕的目的，*后將污染物轉換為氣相，并通過真空泵用連續氣體流將其排出。

主要特點

1、超低清洗溫度，滿足不同場合溫度要求，不對清洗產品造成溫度影響；

2、旋轉裝置為行星旋轉機構、具鍍膜工藝不同，設計為：變頻調速，公轉式、公自轉結合式。采用氣動門鉸，自動鎖門，減少操作程序，增強真空門整體的密閉性及減少對橡膠密封圈的破壞性；

3、高真空度真空腔體設計及制造工藝，配置進口真空泵（分子泵），用戶可據自己的需求，隨時升級為多功能鍍膜設備；

4、設備采用原裝進口高壓激勵電路技術，產生高密度等離子體，確保出眾的清洗效果；

5、放電技術：特殊處理及特殊結構的放電裝置，確保形成穩定均勻的等離子體；

6、智能控制：PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面，實現邏輯全自動控制；

7、報警及保護：全面安全防護包括：溫度安全防護功能、過載防護功能、短路斷路報警防護功能，各種誤操作保護功能。異常情況進行報警，并執行相應保護措施。

技術優勢

1、物質的微結構表面會粘附各種各樣的氣體分子、微小顆粒、氧化物雜質等，統稱為粘附物，這些粘附物屬于微觀粒子，宏觀的清洗方式不能清除它們；

2、這些微觀粘附物會對納米級膜層產生諸多不利影響，影響膜層的結合力、清潔度、光澤、致密度等；

3、離子束刻蝕清洗源可以在真空條件下產生高能氬等離子體，轟擊被鍍工件表面；它不僅可以消除表面粘附物，還能“刻蝕”物質表面氧化物，從而得到“新鮮”物質表面，可以極大地提高薄膜的結合力，并提高膜層純度；

4、離子束清洗工藝通常運行在膜層沉積之前。 清洗各種形狀復雜的產品，包括內孔內壁、均勻清洗；

5、設計更緊湊合理、美觀；離子束更穩定；工作功率范圍更寬；清洗刻蝕效率更高；刻蝕均勻性更好；性能可靠，操作維修簡單方便；產品系列更完整；

6、應用領域，可以為如下行業的鍍膜提供表面清洗預處理：3C消費電子、半導體、光學、 交通工具、刀具模具、家電、新能源、醫療、**航天、科研等行業。