粉體行業(yè)在線展覽
BHO200型超高溫氧化爐
面議
拉普拉斯
BHO200型超高溫氧化爐
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項 目 | 高溫氧化爐 |
功 能 | ? 用于SiC、GaN等高溫氧化工藝 ? 滿足真空/氣氛高溫氧化工藝 |
重要參數 | ? **晶圓尺寸:滿足6寸以下晶圓工藝要求 ? **載片量:50片/批 ? **加熱溫度:1500℃ |
裝卸片方式 | ? 立式垂直升降 ? 立式真空密封系統(tǒng) |
拉普拉斯新能源科技股份有限公司(LAPLACE Renewable Energy Technology Co., Ltd.)成立于2016年,是一家由多位海內外半導體設備領域高端人才創(chuàng)立的高科技高端裝備研發(fā)制造企業(yè)。拉普拉斯致力于成為**的泛半導體領域核心工藝解決方案提供商。
拉普拉斯現有人數規(guī)模超過1840人,公司擁有一支包含多名外籍專家和多名博士在內的核心研發(fā)團隊,研發(fā)人員占比14.89%,技術人員占比27.28%。公司在深圳坪山區(qū)擁有一座8000平方米的研發(fā)中心和生產廠房,公司在無錫占地137畝,一期**棟廠房13000平方米已建設完成并投入使用,可滿足單月產能400臺套以上的生產需求,未來2-3年將快速完成二期和三期的工廠建設規(guī)劃。
熱場
石英件
BHO200型超高溫氧化爐
超高溫退火爐
Bhadra?真空成型LVA400
Bhadra?立式
拉普拉斯電池間隙貼膜機
鍍膜自動上下料設備
拉普拉斯低壓水平化學氣相沉積鍍膜設備 LPCVD LLP430
拉普拉斯低壓水平氧化退火設備 LOX430
拉普拉斯低壓水平硼擴散設備 LRB430
拉普拉斯低壓水平磷擴散設備 LRP430