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Bhadra?立式

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拉普拉斯新能源科技股份有限公司

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品牌：

拉普拉斯

型號：

Bhadra?立式

關注度：

720

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型號	Bhadra?立式LPCVD BHC200
功能	氮化硅/氧化硅/多晶硅（Poly-Si）/非晶硅（α-Si）薄膜沉積適用于功率半導體/襯底材料
重要參數	晶圓尺寸：8寸及以下晶圓載片量：125片/批 **加熱溫度：1050℃ 成膜種類：根據不同工藝要求工藝源可選配
裝卸片方式	立式垂直升降垂直真空密封系統
優勢	先進的壓力控制技術五區高精度溫度場控制先進的顆粒控制技術先進微環境氧含量控制穩定的傳輸控制能力

Bhadra?立式LPCVD BHC200

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