粉體行業在線展覽
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拉普拉斯低壓水平氧化退火設備 LOX430
直接聯系
拉普拉斯新能源科技股份有限公司
廣東
面議
拉普拉斯
拉普拉斯低壓水平氧化退火設備 LOX430
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設備的應用及特點：
應用
本設備適合156-210mm硅片生產，能幫助客戶降低固定資產投入和運營成本。
產品特點
1. 水平放片，管內空間利用率高，不僅能耗低，且具有業內**的產能；
2. 硅片方向與氣流方向一致，硅片對氣流阻擋小，片內/片間均勻性更優；
3. 自重擠壓，減少硅片間間隙，繞擴/繞鍍可控；
熱場
石英件
BHO200型超高溫氧化爐
超高溫退火爐
Bhadra?真空成型LVA400
Bhadra?立式
拉普拉斯電池間隙貼膜機
鍍膜自動上下料設備
拉普拉斯低壓水平化學氣相沉積鍍膜設備 LPCVD LLP430
拉普拉斯低壓水平氧化退火設備 LOX430
拉普拉斯低壓水平硼擴散設備 LRB430
拉普拉斯低壓水平磷擴散設備 LRP430
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
NVT-HG型 單晶生長爐
