粉體行業在線展覽
拉普拉斯低壓水平磷擴散設備 LRP430
面議
拉普拉斯
拉普拉斯低壓水平磷擴散設備 LRP430
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設備的應用及特點:
應用:
本設備適合156-210mm硅片生產,無傳統技術的搭片及其帶來的方阻均勻性問題,更高的方阻均勻性為客戶帶來更窄的效率分布和更高的電性能良率。更高的方阻均勻性為下一代高方阻工藝提供了可能,能幫助客戶進一步提升轉換效率和競爭力。本設備具有行業內**產能,能幫助客戶降低固定資產投入和運營成本。
產品特點:
1. 水平放片,管內空間利用率高,能耗低;
2. 硅片方向與氣流方向一致,硅片對氣流阻擋小,片內/片間均勻性更優;
3. 自重擠壓,減少硅片間間隙,繞擴/繞鍍可控;
4. 水平放片,更適合超大,超薄硅片生產;
5. 電池技術適用性和通用性高,可用于PERC,TOPCon等各種電池結構;
6. 整機模塊化設計,兼容性好,可相互升級轉換;
熱場
石英件
BHO200型超高溫氧化爐
超高溫退火爐
Bhadra?真空成型LVA400
Bhadra?立式
拉普拉斯電池間隙貼膜機
鍍膜自動上下料設備
拉普拉斯低壓水平化學氣相沉積鍍膜設備 LPCVD LLP430
拉普拉斯低壓水平氧化退火設備 LOX430
拉普拉斯低壓水平硼擴散設備 LRB430
拉普拉斯低壓水平磷擴散設備 LRP430
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
NVT-HG型 單晶生長爐