粉體行業(yè)在線展覽
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單片清洗設(shè)備
直接聯(lián)系
盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司
美國(guó)
面議
盛美半導(dǎo)體
單片清洗設(shè)備
755
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清洗藥液獨(dú)立控制，無交叉污染
噴嘴藥液流量精確控制系統(tǒng)
較低的使用成本
優(yōu)秀的清洗效果
可應(yīng)用不同種晶圓清洗工藝，*終清洗，外延前清洗，CMP后清洗
高產(chǎn)能
對(duì)小顆粒的管控和金屬管控能力，19納米顆粒增加值<=30顆，金屬污染<=5E7 atmos/cm2
可適用于6寸、8寸或12寸晶圓清洗
*多可配置8套清洗腔體
*多可配置5種藥液進(jìn)行清洗工藝，RCA藥液，氫氟酸，臭氧水，去離子水等。
可對(duì)基板片，外延片的清洗工藝
產(chǎn)品咨詢
單片清洗設(shè)備
盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司請(qǐng)?zhí)顚懩男彰?
請(qǐng)?zhí)顚懩碾娫挘?
請(qǐng)?zhí)顚懩泥]箱：*
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電鍍?cè)O(shè)備X
單片清洗設(shè)備
Post-CMP清洗設(shè)備
無應(yīng)力拋光設(shè)備
濕法去膠設(shè)備
濕法刻蝕設(shè)備
顯影設(shè)備
涂膠設(shè)備
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PECVD設(shè)備
前道涂膠顯影設(shè)備
立式爐設(shè)備
濾布自動(dòng)清洗裝置
空罐殺菌機(jī)
立式滅菌器Systec V 系列
微波盒飯加熱殺菌機(jī)
碎玻璃清洗機(jī)
MQ-25
等離子清洗機(jī) LPC-100
連續(xù)式醫(yī)藥微波殺菌設(shè)備
攪拌樓下洗車機(jī)
高純石英砂篩分清洗生產(chǎn)線
陶瓷盤清洗機(jī)
