粉體行業在線展覽
電鍍設備X
面議
盛美半導體
電鍍設備X
715
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高速電鍍銅同時實現更好的均勻化控制
水平式電鍍腔體,無交叉污染
可單腔體維護,提高設備正常運行時間(up time)
Rubber Seal 技術, 更好的密封性能
第二陽極技術,更好地控制均一性
靈活的工序控制
兼容8寸和12寸
*多可配至3個Load Port
*多可配至4種預濕腔體,真空控制
*多可配至4 個清洗腔體
*多可配至20個電鍍腔體: Cu,Sn/Ag, Ni
設備尺寸: 2250 x 7100 x 2900 mm
工藝性能:
片內均一性: <5% (**-*小/2 平均)
片間均一性<3%
重復性: <3%
COP: < 10 μm
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
NVT-HG型 單晶生長爐