粉體行業在線展覽
科研級磁控濺射設備—MS-300
面議
致真精密
科研級磁控濺射設備—MS-300
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MS-300磁控濺射設備具有超高真空、單原子層沉積精度的特點,可以靈活選擇陰極向上或向下濺射。設備標配3個2英寸超高真空陰極。滿足實驗室中科學研究的需求,維護簡單,運行穩定。
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發源
圓形互聯設備(外置機械臂、內置機械臂)
兩個鍍膜系統直接互聯設備
超高真空管道傳輸設備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產型磁控濺射設備—MSI-200
生產型磁控濺射設備—MSI-100-UHV
生產型磁控濺射設備—MSI-100-HV
量產級多功能薄膜沉積設備
分子束外延設備—MBE-400