粉體行業在線展覽
定制-RTR濺鍍
面議
毅睿/芯壹方
定制-RTR濺鍍
107
RTR濺鍍
主輥直徑 | 1,000mm(φ) x600/1500mm(D) |
真空室 | 5 chambers (Unwind、Pre-Heat、 Coating 、Cooling 、Rewind |
有效涂層寬度 | 1,350mm/500mm |
厚度 | 15~250μm |
速度 | 0.5~20M/min |
傳輸張力 | 2~7Kg @1~3 m/min |
對準 | ≤±2mm@1~3m/min |
濺射材料 | ITO 、Nb?O5,、SiO2、Si、NbzOX、Cu |
厚度均勻性 | ≤±3% |
靶材利用率 | 70% |
陰極 | Rotatable cathode 4~ 6 sets |
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037
HSE系列等離子刻蝕機