粉體行業在線展覽
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晶體提拉設備
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山東力冠微電子裝備有限公司
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山東力冠
晶體提拉設備
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產品概述/Product Introduction：
? 直拉法晶體生長專用設備，可實現在高壓、真空和保護氣氛下直拉生長晶體
Special equipment for Czochralski crystal growth, which can realize Czochralski crystal growth under high pressure, vacuum and protective atmosphere
? 采用自動稱重結構，在保證晶體品質的前提下實現了直拉晶體的自動生長過程
Adopting automatic weighing structure, the automatic growth process of Czochralski crystal is realized on the premise of ensuring crystal quality
產品特點/Product Characteristics：
? 高精度的傳感器和控制軟件
High precision sensor and control software
? 自動控制晶體外形
Automatic control of crystal shape
? **溫度:2400℃
Maximum temperature: 2400℃
? 晶體尺寸:2-8英寸
crystal size: 2-8 inches
應用范圍/Scope：
? 應用于氧化家(Ga?O?)單晶生長，SiC單晶、激光單晶生長
Applied to Gallium Oxide(Ga?O?)Single Crystal Growth, SiC Single Crystal Growth and Laser SingleCrystal Growth
