粉體行業(yè)在線展覽
高還原性低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 FATB
面議
萬德思諾
高還原性低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 FATB
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產(chǎn)品圖片:
產(chǎn)品型號:
FATB系列
產(chǎn)品介紹:
高還原性低溫?zé)釅烘I合設(shè)備可實現(xiàn)Ar,N2,高活性還原氣體等多種氣氛,可實現(xiàn)芯片到晶圓尺寸的低溫?zé)釅烘I合。
產(chǎn)品特性:
技術(shù)參數(shù):
溶液成長法單晶生長設(shè)備(TSSG法)
中型高速研磨設(shè)備 STC-610
快速高溫退火設(shè)備RTA RSA-06
全自動晶片減薄機SGM-9100
桌上型精密切割機MPC-200e
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設(shè)備 M150A
C2W低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 SAFP
高還原性低溫?zé)釅簩舒I合設(shè)備 MAFP
高還原性低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 FATB
碳膜濺射設(shè)備 CS-200
碳膜去除設(shè)備 NE-550EX
激活退火設(shè)備 Ailesic-2000