粉體行業(yè)在線展覽
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設(shè)備 M150A
面議
萬德思諾
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設(shè)備 M150A
12
產(chǎn)品圖片:
產(chǎn)品型號:
M150A
產(chǎn)品介紹:
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設(shè)備M150A是一種新型氧化物成膜技術(shù),具有節(jié)能安全、易操作等優(yōu)點,可廣泛應(yīng)用于第四代半導(dǎo)體Ga2O3,直接寬帶隙光電半導(dǎo)體材料 ZnO 等氧化物的薄膜沉積制造。
M150A 是青禾晶元開發(fā)的**一代 mist-CVD 氧化物薄膜沉積設(shè)備,致力于將半導(dǎo)體材料的制備技術(shù)推向新的時代。
產(chǎn)品特性:
技術(shù)參數(shù):
溶液成長法單晶生長設(shè)備(TSSG法)
中型高速研磨設(shè)備 STC-610
快速高溫退火設(shè)備RTA RSA-06
全自動晶片減薄機SGM-9100
桌上型精密切割機MPC-200e
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設(shè)備 M150A
C2W低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 SAFP
高還原性低溫?zé)釅簩舒I合設(shè)備 MAFP
高還原性低溫?zé)釅烘I合設(shè)備 FATB
碳膜濺射設(shè)備 CS-200
碳膜去除設(shè)備 NE-550EX
激活退火設(shè)備 Ailesic-2000