粉體行業在線展覽
M82200-10UM型PECVD 鍍膜設備
面議
電子科技
M82200-10UM型PECVD 鍍膜設備
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產品簡介
單臺(5管)產能≥3600片/小時(單管裝片416片/批);
沉膜均勻性好,膜厚均勻性指標可達:片內≤3%、片間≤3%、批間≤3%;
350~580℃控溫范圍,同時滿足沉積氮化硅膜和退火工藝要求;
采用全套倍??刂葡到y,自動化程度高( 提供MES接口、遠程監控等功能);
全自動上下舟系統,一鍵全自動工藝和完善的保護報警功能;
送料機構強度、精度、速度、穩定性大幅優于同類產品。
基本參數 | 成膜種類 | 氮化硅 |
裝片量與產能 | 416 片/批(156x156mm 方片),單臺5管產能≥3600片/小時; | |
在線時間 | ≥98%; | |
設備功率 | 峰值功率≤280KW,平均功率≤70KW; | |
設備尺寸 | 7400mm(不含真空泵)×2110mm×3530mm(L×W×H); | |
成膜質量參數 | 成膜均勻性 | 片內≤4%、片間≤3%、批間≤3%(膜厚80~120nm); |
折射率均勻性 | 片內≤1.5%、片間≤1.5%、批間≤1.5%(折射率2~2.2); | |
溫控系統參數 | 恒溫區長度及精度 | ≤±1℃/1600mm (450℃時); |
溫度控制范圍 | 200~580℃; | |
溫度控制方式 | 五段雙回路溫度控制; | |
真空系統參數 | 壓力控制 | 高精度VAT閥控制,控壓范圍220±40Pa; |
石墨舟傳輸系統參數 | 石墨舟上料方式 | 全自動機械手上下舟,在線式/離線式對接插片機可選; |
控制系統參數 | 推舟機構 | 水平速度1~12000mm/min可調,垂直速度1~150mm/min可調,承重≥40KG; |
控制方式 | 高性能工控計算機全自動控制工藝過程,并對工藝參數和工藝流程實時監控; | |
基本參數 | 在線時間 | ≥98%; |
設備功率 | 峰值功率≤280KW,平均功率≤70KW; | |
設備尺寸 | 7400mm(不含真空泵)×2110mm×3530mm(L×W×H); |
XRD-晶向定位
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