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產品詳情

LPCVD低壓化學氣相沉積設備（科研型LPCVD）簡介

是在低壓高溫的條件下，通過化學反應氣相外延的方法在襯底上沉積各種功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科學研究、實踐教學、小型器件制造。

設備結構及特點

1、小型化，方便實驗室操作和使用，大幅降低實驗成本
兩種基片尺寸2英寸或4英寸；每次裝片1～3片。

基片放置方式：配置三種基片托架，豎直、水平臥式、帶傾角。

基片形狀類型：不規則形狀的散片、φ2～4英寸標準基片。

2、設備為水平管臥式結構

由石英管反應室、隔熱罩爐體柜、電氣控制系統、真空系統、氣路系統、溫控系統、壓力控制系統及氣瓶柜等系統組成。

反應室由高純石英制成，耐腐蝕、抗污染、漏率小、適合于高溫使用; 設備電控部分采用了先進的檢測和控制系統，量值準確，性能穩定、可靠。

LPCVD設備主要技術指標

LPCVD低壓化學氣相沉積設備（生產型LPCVD）簡介

; <spantimes new="" roman";="" mso-fareast-font-family:宋體;mso-bidi-font-family:+mn-cs;mso-bidi-theme-font:="" minor-bidi;color:black;mso-color-index:1;mso-font-kerning:1.0pt;language:zh-cn;="" mso-style-textfill-type:solid;mso-style-textfill-fill-themecolor:text1;="" mso-style-textfill-fill-color:black;mso-style-textfill-fill-alpha:100.0%&#x27;="" style="box-sizing: border-box; border-width: 0px; border-style: solid; border-color: rgba(229, 231, 235, var(--tw-border-opacity)); --tw-translate-x: 0; --tw-translate-y: 0; --tw-rotate: 0; --tw-skew-x: 0; --tw-skew-y: 0; --tw-scale-x: 1; --tw-scale-y: 1; --tw-transform: translateX(var(--tw-translate-x)) translateY(var(--tw-translate-y)) rotate(var(--tw-rotate)) skewX(var(--tw-skew-x)) skewY(var(--tw-skew-y)) scaleX(var(--tw-scale-x)) scaleY(var(--tw-scale-y)); --tw-border-opacity: 1; --tw-ring-inset: var(--tw-empty); --tw-ring-offset-width: 0px; --tw-ring-offset-color: #fff; --tw-ring-color: rgba(59, 130, 246, 0.5); --tw-ring-offset-shadow: 0 0 #0000; --tw-ring-shadow: 0 0 #0000; --tw-shadow: 0 0 #0000; --tw-blur: var(--tw-empty); --tw-brightness: var(--tw-empty); --tw-contrast: var(--tw-empty); --tw-grayscale: var(--tw-empty); --tw-hue-rotate: var(--tw-empty); --tw-invert: var(--tw-empty); --tw-saturate: var(--tw-empty); --tw-sepia: var(--tw-empty); --tw-drop-shadow: var(--tw-empty); --tw-filter: var(--tw-blur) var(--tw-brightness) var(--tw-contrast) var(--tw-grayscale) var(--tw-hue-rotate) var(--tw-invert) var(--tw-saturate) var(--tw-sepia) var(--tw-drop-shadow); --tw-backdrop-blur: var(--tw-empty); --tw-backdrop-brightness: var(--tw-empty); --tw-backdrop-contrast: var(--tw-empty); --tw-backdrop-grayscale: var(--tw-empty); --tw-backdrop-hue-rotate: var(--tw-empty); --tw-backdrop-invert: var(--tw-empty); --tw-backdrop-opacity: var(--tw-empty); --tw-backdrop-saturate: var(--tw-empty); --tw-backdrop-sepia: var(--tw-empty); --tw-backdrop-filter: var(--tw-backdrop-blur) var(--tw-backdrop-brightness) var(--tw-backdrop-contrast) var(--tw-backdrop-grayscale) var(--tw-backdrop-hue-rotate) var(--tw-backdrop-invert) var(--tw-backdrop-opacity) var(--tw-backdrop-saturate) var(--tw-backdrop-sepia);">設備電控部分采用了先進的檢測和控制系統，量值準確，性能穩定、可靠。

整個工藝過程由計算機對全部工藝流程進行管理，實現爐溫、氣體流量、壓力、閥門動作、泵的啟閉等工藝參數進行監測和自動控制。也可以手動控制。

設備主要技術指標

LPCVD軟件控制界面